半導体デバイス
製作実験センター

沿革

 半導体デバイス製作実験センター(クリーンルーム)は,半導体デバイス教育を目的として,昭和60年に全国に先駆けて開設され,その後,平成13年にA棟に移設・新設されました.本施設のような高精度な設備が学生実験のために大学に設けられたのは九州で初めてです.学生が自らの手でデバイスを作り,その性能を調べる実験の学習効果は,既成デバイスを調べる実験とは比べものにならないほど大きいものです.本学のクリーンルームで学ぶ体験は,将来,エンジニアとして活躍する時に大いに役立つはずです.
半導体クリーンルームは微細加工の大敵である,塵・ホコリなどを極力排除した空間です.この部屋の中で様々な研究・実験に取り組んでいます.クリーンルームの空気清浄度は“クラス”で定義されています.実験室ⅠとⅡはクラス10,000以下,フォトリソ室はクラス1,000以下(これは,一辺が約30cmの立方体に,タバコの煙ほどの大きさの微粒子を1000個以下しか発見することができないという意味です)に設計しています.

昭和59年度文部省私立学校施設整備計画申請

設置場所 6号館1階  
面積 クリーンルーム室 16m×9m=134㎡
準備室+前室 16m×3m=47.2㎡
クラス実験室(1) クラス10,000  
実験室(2) クラス10,000
フォトリソ室 クラス 1,000
昭和60年3月 全国で数少ない半導体デバイス製作実験室が,全学共同利用教育設備として完成
昭和61年4月から シリコンpMOSインバータの製作と特性評価を電子材料工学科3年次生の電子材料学実験科目の中に取り入れた.電子工学科,電気工学科もIC製作の学生実験を導入

平成13年6月新校舎へクリーンルーム新設(平成13年度文部科学省補助申請教育設備申請)

設置場所 A棟8F  
面積 クリーンルーム室 約12.2m×11.5m=140.0㎡
準備室+前室 約4.3m×11.5m=49.8㎡
ガスボンベ室 約1.5m(L)×3.0m(W)×2.0m(H)
薬品廃棄庫 約1.5m(L)×2.0m(W)×2.0m(H)
クラス 実験室Ⅰ クラス10,000以下
フォトリソ室 クラス 1,000以下
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