研究シーズ 1
最終更新日: 2010/01/29
項目 | 内容 |
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研究分野: | 応用光学・量子光工学 |
研究テーマ: | インクジェット技術を応用した塗布装置 |
研究概要: | 研究の背景&概要 半導体ウエハー等へのレジスト塗布装置として,スピンコータが利用されている。 これに変わる新たな塗布装置としてインクジェット技術を提案する。これは,半導体ウエハー径が450mmと広面積化への移行計画を念頭に置いたものであるが,狭面積でも対応が可能である。なお,半導体ウエハー径450mmの試作品は,2012年以降には生産される見通し。 技術的な概要 インクジェット技術は,インク微粒子1滴に着目した応用が一般的であるが,インク微粒子群として塗布装置へ応用することである。特徴は,ノズルを移動させるためスピンコータの様に半導体ウエハー等の高速回転を必要とせず,レジストの使用量も節約できることである。 |
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